安捷倫8900 ICP-MS/MS高靈敏度分析Sio2納米顆粒

二氧化矽 (SiO2) 納米顆粒 (NP) 廣泛應用於(yu) 從(cong) 油漆、塗料、粘合劑到食品添加劑、化妝品和拋光微電子設備的各種應用。隨著應用的增加，人們(men) 日益關(guan) 注納米顆粒對環境、食品安全和人類健康的影響。顯然，我們(men) 需要對各種樣品中的低濃度納米顆粒進行監測。

通過傳(chuan) 統四極杆 ICP-MS 實現 NP 的準確測量麵臨(lin) 著諸多挑戰，特別是區分背景信號與(yu) 小顆粒產(chan) 生的信號的能力方麵。因此，迄今為(wei) 止報道的許多研究仍集中於(yu) 銀和金等相對易於(yu) 通過 ICP-MS 測量的元素也不足為(wei) 奇。這些元素有較高的靈敏度，通常不易受到幹擾物的影響，一般也不存在於(yu) 天然樣品中，這使儀(yi) 器能夠更輕鬆地測量較小顆粒。然而在現實情況下，多數天然和人為(wei) 加工的 NP 均基於(yu) 難以通過 ICP-MS 進行測量的元素，如鐵、硫、鈦和矽型 NP。對這些元素而言，樣品基質或等離子體(ti) 背景有可能對其產(chan) 生強烈的多原子幹擾，在某些情況下靈敏度也會(hui) 因較低的離子化程度或需要測量次要同位素而降低。二氧化矽 (SiO2) NP的廣泛應用因此對其監測有明確的要求。然而，通過 ICP-MS 並不能輕鬆實現 Si 的測量，因為(wei) Si 的主同位素（28Si，豐(feng) 度為(wei) 92.23%）會(hui) 受到背景多原子離子 CO 和 N2 的幹擾。可采用 ICP-MS 碰撞/反應池中的化學反應解決(jue) 幹擾問題，為(wei) 獲得可控而一致的反應過程，需要使用 Agilent 8900串聯四極杆ICP-MS (ICP-MS/MS) 等串聯質譜儀(yi) 器。

Agilent 8900 ICP-MS/MS 采用兩(liang) 個(ge) 四極杆質量過濾器（Q1 和 Q2）以及一個(ge) 位於(yu) 二者之間的八極杆反應池來實現雙重質量選擇功能，這種功能通常稱為(wei) MS/MS。MS/MS 提供的方法能夠解決(jue) 挑戰性的譜圖重疊問題，並可清楚了解池內(nei) 的反應過程。ICP-MS/MS 可對矽等最難分析的元素實現成功測定。因此可采用配備單納米顆粒應用模塊軟件的Agilent 8900 ICP-MS/MS在spICP-MS模式下對SiO2 NP進行測量。

以H2作為(wei) 反應池氣體(ti) ，在 MS/MS模式下運行的Agilent 8900 ICP-MS/MS可成功用於(yu) SiO2納米顆粒的測定和表征。MS/MS 操作即使在碳基質含量較高時也可有效消除 m/z 28 處Si分析的多原子離子幹擾，從(cong) 而獲得較低的背景信號和優(you) 異的靈敏度。ICP-MS MassHunter 軟件專(zhuan) 有的單納米顆粒應用模塊軟件可通過計算粒徑為(wei) 單個(ge) NP標準物質和混合溶液提供準確結果。spICP-MS/MS 方法可為(wei) 粒徑小於(yu) 100 nm 的 SiO2 顆粒提供較快的分析速度、粒徑和濃度的優(you) 異檢測限以及準確的結果。