串聯四極杆ICP-MS可實現對低濃度汞元素測定

許多汞 (Hg) 化合物有毒，會(hui) 引起皮膚刺激、頭痛、震顫、神經係統損傷(shang) 和腎衰竭等不適或中毒症狀。由於(yu) 汞化合物極易透過皮膚被人體(ti) 吸收，因此化妝品中 Hg 化合物的使用受到嚴(yan) 格控製。例如，除非在特殊條件下（找不到其它可替代的安全有效防腐劑），否則美國食品藥品監督管理局 (FDA) 不允許在化妝品裏使用汞。

然而，Hg 化合物在護膚霜、肥皂和乳液中使用，可使其具有“抗衰老”或“美白”功效。某些不法商販看中了其中的商機，會(hui) 在化妝品中非法添加 Hg 化合物，以求產(chan) 品的“顯著”功效，從(cong) 中獲利。

可使用 ICP-MS 測定低濃度的汞元素，但存在一定的困難。

汞具有較高的第一電離勢 (10.44 eV)，因此在等離子體(ti) 中電離效果相對較差，從(cong) 而導致靈敏度較低。此外，汞有七種天然存在的同位素，每一種同位素的豐(feng) 度 (%) 都相對較低，這進一步降低了靈敏度。此外，一些化妝品中還含有大量鎢 (W)，這導致汞的所有同位素都受到 WO+ 和 WOH+ 的多原子幹擾，使得汞的測定更加困難。配有碰撞反應池 (CRC) 的傳(chuan) 統單四極杆 ICP-MS 並不能充分去除 WO+ 和 WOH+幹擾，無法對汞進行準確的痕量測定。

在研究中發現，串聯四極杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 在 MS/MS 模式、反應池氣體(ti) 為(wei) O₂ 下具有出色的幹擾去除能力，可成功去除 WO+ 和 WOH+ 對五種主要汞同位素的多原子幹擾，從(cong) 而對汞進行原位質量檢測。

- 采用反應池氣體(ti) 為(wei) O₂ 的 MS/MS 原位質量方法，在鎢存在條件下的汞痕量測量準確一致；

- 與(yu) 傳(chuan) 統的單四極杆 ICP-MS 相比，ICP-MS/MS 可將幹擾降低至少兩(liang) 個(ge) 數量級；

- 8900 ICP-MS/MS 方法可輕易滿足富含鎢的化妝品樣品中對痕量汞分析的要求。