安捷倫電感耦合等離子體質譜儀ICPMS7700X 於10月10日在甘肅某半導體企業驗貨

合作夥(huo) 伴：甘肅某半導體(ti) 企業(ye)

儀(yi) 器類型：電感耦合等離子體(ti) 質譜儀(yi)

品牌：安捷倫(lun)

型號：ICPMS 7700X

2023年10月10日，甘肅某半導體(ti) 企業(ye) 購買(mai) 安捷倫(lun) 電感耦合等離子體(ti) 質譜儀(yi) ICPMS7700X，安裝調試完畢，感謝客戶的支持與(yu) 認可！

與(yu) 傳(chuan) 統無機分析技術相比，電感耦合等離子體(ti) 質譜儀(yi) ICP-MS技術提供了最低的檢出限、最寬的動態線性範圍、幹擾最少、分析精密度高、分析速度快、可進行多元素同時測定以及可提供精確的同位素信息等分析特性。

矽片是信息技術產(chan) 業(ye) 中半導體(ti) 製造業(ye) 的基礎材料, 矽片在製作使用過程中的金屬雜質控製與(yu) 檢測是關(guan) 乎產(chan) 品性能的重要手段與(yu) 指標。在製造工藝生產(chan) 過程中矽片表麵極其少量金屬汙染的存在都有可能導致器件功能失效或可靠性變差, 有統計表明, 在電力電子元器件和光伏產(chan) 品製造業(ye) 中50%產(chan) 品良率的降低都是由於(yu) 汙染造成的,因此在製造生產(chan) 過程中對矽片表麵雜質汙染的控製極為(wei) 重要，檢測規範非常嚴(yan) 格。
 

隨著ICP-MS (電感耦合等離子體(ti) 質譜分析法)技術的不斷革新,以吸其傑出的超痕量級檢測性能和多元素同時快速分析能力, 現已成為(wei) 矽片表麵汙染測試監控中必不可少的手段。矽片表麵汙染測試既是矽片製造過程中必不可少的監控手段,也是提升後道器件性能的重要方法與(yu) 依據。電感耦合等離子體(ti) 質譜分析法通過不斷革新,已具備出的超痕量級檢測性能和多元素同時快速分析能力,已被成熟使用多年,亟需製定相關(guan) 產(chan) 品標準。

國家標準《矽片表麵金屬元素含量的測定電感耦合等離子體(ti) 質譜法》GB/T 39145-2020

本標準規定了電感耦合等離子體(ti) 質譜法（ICP-MS）測定矽片表麵金屬元素含量的方法。
本標準適用於(yu) 矽單晶拋光片和矽外延片表麵痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測定，測定範圍為(wei) 108 cm²～1013cm²。本標準同時也適用於(yu) 矽退火片、矽擴散片等無圖形矽片表麵痕量金屬元素含量的測定。